清華大學無錫應用技術研究院集成電路創新服務平臺
發布時間：2024-03-25 作者：無錫英諾賽思科技有限公司 點擊次數：2565
Crossbeam 350 新一代高性能聚焦離子束/掃描電鏡雙束系統介紹
80mm大尺寸樣品交換倉，換樣簡單方便
性能特點：
離子束：
最大100nA束流控制出精細束斑
探針電流：1pA-100nA
→ 快速樣品切割和納米加工
高分辨率：3nm (@30kV)靜態統計法，
120nm(@1kV)
→ 適用于精準加工應用需求
→ 適用于FIB清晰成像
離子束加速電壓范圍：500V - 30kV
→ 樣品制備過程中最小化的損傷和非晶化
放大倍數：300x-500000x
離子束流長時間穩定性
→ 離子源單次加熱可連續工作72小時以上
→ 后臺軟件控制離子源全自動加熱恢復
(可勝任7天/24小時無間斷工作)
→ 超長離子源使用壽命長：1500h / 3000μAh
電子束：
高分辨率：0.9nm (@15kV),1.7nm(@1kV)
加速電壓范圍：200V - 30kV,10V步進
放大倍率：12x-2000000x(SEM)
最大存儲分辨率：32kx24k
束流：3pA-40nA
FIB-SEM雙束顯微鏡的主要應用
透射制樣
微柱切割
三維原子探針制樣
截面切割和觀察
微納加工
三維重構
